Study of surface effects induced by Quasi-atomic layer etching
Föreställ dig att du försöker skala ett äpple, men i stället för att använda dig utav en kniv för att skala äpplet använder du dig utav ett mer effektivare verktyg, för att undvika att skala bort fruktköttet. För att skala äpplet så tunt som möjligt skulle du behöva ta bort skalet ett litet lager i taget, gärna så tunt som möjlig, så tunt som till fristående atomlager. Detta liknar vad forskare göAtomic Layer Etching (ALE) is a self-limiting cyclic dry etching process used in nanofabrication that allows for material etching on the atomic scale in a layer-by-layer regime. In practical applications, such as using commercially available reactive ion etching (RIE) tools, the ion energy in the plasma exceeds the sputtering threshold (typically 20 to 40 eV for Si), leading to a Quasi-ALE (Q-ALE)
